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    李东坐在中间靠后的位置。

    这次杯赛的试卷主要分为选择、填空、计算以及最后一道分值极高的“实验设计题”

    李东简单的浏览了一遍全卷。

    “这就是华轩杯的难度？”

    总体来说，难度一般。

    而且这些题果然比较偏向实际应用，陷阱也不少。

    比如第三道选择题：

    【某新能源汽车采用电磁涡流制动系统。当圆盘形金属刹车盘在磁场中高速旋转时，求制动力矩M与角速度ω的关系。】

    这道题乍一看要积分，但是事实上完全没必要，只要抓住“感应电动势E∝v∝ω”和“安培力F∝I∝E”这两个核心点，其实就能很简单的推出制动力矩 M∝ F∝ω。

    所以答案就是B，线性关系。

    还有一道数据中心液冷散热的计算题。

    【已知冷却液的比热容和流速，求芯片表面温度稳定时的热阻网络模型。】

    这题花里胡哨的，可事实上，它的本质上就是热力学第一定律结合欧姆定律的热电类比。

    温差相当于电压，热流相当于电流，热阻相当于电阻。

    李东画出了等效电路图，三下五除二就算出了结温。

    他越写越顺……

    直到翻到最后那一页的实验题。

    刚才李东只是粗略扫了一眼倒没觉得什么，现在仔细一读……

    “这题……”

    “这是把光刻机的核心难题给脱敏放出来了？”

    题目很长，占了整整一页纸。

    【某实验小组为探究投影光刻系统的分辨能力，搭建了简化光刻实验装置：采用波长为λ的单色平行光作为曝光光源，通过数值孔径为 NA的投影物镜，将掩模上的精细图案投影到涂有光刻胶的晶圆表面，实现芯片图案的转移。

    光刻系统的最小分辨线宽（可清晰区分的两条相邻线条的最小间距）遵循瑞利判据：

    δ= 0.61λ/NA

    其中数值孔径 NA = n・sinθ，n为物镜与晶圆之间介质的折射率，θ为物镜能接收的最大光线的半孔径角。

    完成下列问题：】

    这题一共三个问题，前两问可能成绩稍微好点的学生就能做出来，甚至都不用学霸。

    但是第三题，你说他难吧，确实有奥赛难度，但不是顶尖的那种。

    可是他的重点不是解出来，而是怎么解出来才最好。

    李东下意识的抬头看了看四周。

    此时距离考试结束还有四十分钟，大部分考生都还在抓耳挠腮地对付前面的计算题。

    他旁边的那个考生，看着年纪特别小，顶多也就是高一的样子，此刻正咬着笔杆，对着这最后一道题发呆，卷子上大片空白。

    “现在的小孩都这么卷了吗？高一就来参加这种比赛？”

    李东心里吐槽了一句，随后收回目光，看向试卷。

    前面两问李东提笔就写。

    【1.求该光刻系统的最小分辨线宽δ₀】

    解：由瑞利判据公式δ= 0.61λ/NA，代入数据λ=436nm，NA=0.35。

    δ₀≈ 0.76μm。

    【2.写出两种工业界常规的技术方案，并简述物理原理。】

    这个阐述题，其实考的是学生的知识面，如果你整天读死书，那还真不一定知道。

    不过李东在啃大物的时候，就有了解过相关的知识了。

    他甚至还专门在网上找了新闻来看。

    一个是用缩短波长的方案，比如使用DUV深紫外光之类的。
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